SiC Power Device

这是一款面向75～150mm的SiC功率半导体制造用SiC外延成膜设备。采用真空下高温控制等先端技术，实现卓越的膜厚、浓度均一性。

这是一款面向200mm以下晶圆的批量型热处理成膜设备。该设备的操作性与功能性高，可以保证设备稳定和持续运行，符合全球安全标准。

这是一款面向75～200mm晶圆的涂胶显影设备，可支持各种基板（Si、GaAs、GaN、SiC、Thin&Thick等），也可支持SOD涂胶成膜。

这是一款面向100～200mm晶圆的等离子蚀刻设备。在规模量产中具有较高性价比的同时，实现卓越的生产率和高可靠性。

这是一款面向100～200mm晶圆的等离子蚀刻设备。在规模量产中具有较高性价比的同时，实现卓越的生产率和高可靠性。

这是一款面向200mm以下晶圆的批量型热处理成膜设备。该设备的操作性与功能性高，可以保证设备稳定和持续运行，符合全球安全标准。

这是一款面向200mm以下晶圆的批量型热处理成膜设备。该设备的操作性与功能性高，可以保证设备稳定和持续运行，符合全球安全标准。

这是一款面向300/200mm晶圆的全自动批量式喷淋清洗设备。支持配备微型环境的FOUP/SMIF，为晶圆传输提供极佳清洁度的环境。半自动配置可实现成本降低。

这是一款面向200mm/150mm晶圆的清洗设备。搭载面向300mm新一代器件的清洗工艺技术，可实现高可靠性和生产率。