エッチング装置は、SAC（セルフ･アライン・コンタクト）、デュアルダマシン、低誘電率の絶縁膜、ゲート、シリコン・ディープ・トレンチなどの広いプラズマエッチングのアプリケーション領域での使用が可能で、高いコストパフォーマンスとチャンバーごとの再現性の高さにより、世界市場で高い評価を得ています。

最先端のデバイスニーズに対応し、かつメンテナンス性を改善した枚葉CVD装置、プラズマ処理装置を提供しています。枚葉CVD装置Triasは、熱やプラズマを利用して金属膜や拡散防止膜を形成する装置で、DRAM関連のアプリケーションでは高いシェアを獲得しています。また、プラズマ処理装置Trias SPAは、プラズマを利用してゲート絶縁膜の窒化および酸化を行う装置で、ウェーハへのダメージが少ないプラズマが、良質でリーク（電気の漏れ）の少ない絶縁膜の形成を可能にしています。

フラットパネルディスプレイ（FPD）は、次第にその活用される範囲が拡大しており、今後の成長が期待できる産業の一つとなっています。東京エレクトロンでは、このフラットパネルディスプレイの分野でもお客様のニーズにお応えするべく最新鋭のFPD製造装置をサポートと共に提供しています。