Etch Systems
동경 엘렉트론의 Etching장치는 SAC(Self Aligned Contact), Dual Damascene, Low-k의 절연막, Poly Gate, Silicon Deep Trench등의 넓은 Plasma Etching의 Application 영역에서의 사용이 가능하여, 높은 Performance와 Chamber마다의 높은 재현성에 의해 세계시장에서 높게 평가를 얻고 있습니다.
Etching장치란?
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Coater/Developer에 의해 현상된 Wafer상에서는 Photoresist에 의한 회로패턴이 그려져 있어, Etching장치의 Chamber 중에서, Plasma 상태가 된 Etching Gas가 산화막 등의 박막을 Pattern에 따라 지워냅니다.
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