CLEAN TRACK LITHIUS는 70nm 노드이후의 프로세스를 타겟으로 한 차세대300mm웨이퍼 프로세스 대응 레지스트 도포현상장치입니다. LITHIUS는 "Improved Process", "Short Cycle Time Tool", "Enhanced Network Solutions"의 3가지의 컨셉을 기반으로 개발되었습니다. 고도의 프로세스에의 대응성과 안정성을 추구함과 동시에, 빠른 납기와 Start-up, 그리고 개조의 용이화를 실현함으로써, 급변하는 반도체 산업의 시장환경에 대응하고 있습니다. 또한, 계측기/측정기의 Integration과 APC, e-Diagnostics를 대표하는 네트워크 기술과의 대응성을 크게 강화시켰으며, 차세대를 겨냥한 300mm장치로써 고객에게 최적화된 솔루션을 제공합니다.

• 보다 정확한 웨이퍼의 열 이력 관리 및 시간 관리의 실현
• 단 납기화를 실현시킨 Selectable Modular Configurations Concept의 채용
• 네트워크 솔루션의 기본이 되는IngenioTM TL CT 의 표준 탑재
• 계측기/측정기의 Full Integration화
• 최첨단 노광기에 대응할 수 있는 고Throughput과 저Footprint의 확립
• 대폭적으로 강화된 자동조정/자동계측기능