본 장치는 저유전율 절연막(Low-k dielectrics) 형성Process에 대해, Low-k재료의 도포, 건조, Bake등의 일환 처리를 하는 SOD(Spin on Dielectric)도포성막장치입니다.
저유전율절연막(Low-k)이 되는 SOD재료의 도포, 건조, Bake등이 가능합니다.
또, Resist coater/ developer 로서 높은 출하실적을 가진 CLEAN TRACK ACT 시리즈의 Platform을 채용함에 따라, 고속반응과 성Space와 더불어 높은 생산성과 신뢰성을 실현하고 있습니다.
각종 SOD재료(유기.무기.Hybrid,Porous막 등)의 대응에 대해서는 독자의 Unit에 의한 최적화를 이룰 수 있습니다.
더욱이 저산소농도 분위기에 고온처리가 되는 Hot plate를 탑재해, 종래의 Furnace로 처리되었던 Cure도 장치내로 실현가능합니다.

• High productivity
• High throughput
• Compact footprint
• Low oxygen bake and cure capability
• Verification of oxygen control by lot
• Single wafer, in-line cure process
• SMIF capability

• ※CLEAN TRACK 및 CLEAN TRACK ACT는 동경엘렉트론 주식회사의 상표입니다.