반도체 제조장치 Coater/Developer는, 반도체 제조 프로세스 중 사진과 같은 기술을 이용한 Photolithography Process에 있어서, 감광제(photoresist)의 도포(coat)와 현상(develop)을 행하는 장치입니다. Coater/Developer에서 웨이퍼 상의 감광제를 도포한 후, 웨이퍼는 노광장치에 보내져 미세한 회로 패턴이 전사됩니다.
다음으로, Coater/Developer 장치에서 약액을 사용한 현상이 이루어집니다. 이것에 의해 빛에 닿는 부분의 감광제는 녹아내리고, 웨이퍼 상에 전사한 회로 패턴이 凸凹로 그려집니다. 이 Photolithography Process는 다양한 공정마다 되풀이되어져, 미세한 집적회로가 만들어집니다.