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半導体製造装置

Trias SPA

Trias SPA

Trias SPAは、Slot Plane Antenna(SPA)を採用することで、低電子温度・高プラズマ密度を両立させたプラズマ処理による酸化、窒化装置です。低温、ダメージレス窒化によるゲート絶縁膜の形成、また、面方位依存性のない低温ラジカル酸化の実現により次世代デバイスの高速化・信頼性向上に貢献します。

アプリケーション
  • ゲート窒化、ゲート修復酸化、STIライナー酸化、High-K窒化など
特 長
  • ウェーハサイズ:200mm、300mm対応(ブリッジツール)
  • プロセスモジュール:1〜4個
  • 対応プロセス:プラズマ窒化、プラズマ酸化
  • Triasは、東京エレクトロン株式会社の登録商標です。

Product

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