本装置は、低誘電率絶縁膜（Low-k dielectrics）などの塗布、ベーク、キュアの一環処理を行うSOD（Spin-on Dielectric）塗布成膜装置です。各種SOD材料（有機・無機・ハイブリッド・ポーラス膜など）への対応については、独自のユニットにより最適化を図ることが可能です。さらに、低酸素濃度雰囲気にて高温で処理できるホットプレートを搭載し、従来のファーネスにて処理されていたキュアも装置内にて実現可能です。

アプリケーション

• IMD（inter-metal dielectric）などの低誘電率絶縁膜（Low-k dielectrics）形成プロセス、および犠牲膜（sacrificial layer)、STI（shallow trench isolation）の絶縁材料などの埋め込み

特　長

• 省スペース、高スループットによる高い生産性
• 低酸素濃度ホットプレート
• 枚葉式インライン・キュアホットプレート
• SMIF対応

• ※CLEAN TRACK ACTは、東京エレクトロン株式会社の登録商標です。