CLEAN TRACK ACT Mは、フォトマスク用レジスト塗布、現像、ベークの基本モジュールを搭載する高性能装置です。微細化が進む中、OPC（Optical Proximity Correction）や位相シフトマスク・化学増幅型レジストが普及し、半導体用フォトマスクの製造工程に高度なプロセス制御が求められています。本装置は、当社にて長年培った半導体用およびFPD用塗布/現像技術をベースに開発されており、全世界で3000台以上の出荷実績を誇るCLEAN TRACK ACTのプラットフォームを採用することで、高い完成度と信頼性を実現しました。

アプリケーション

• フォトマスク用リソグラフィプロセス

特　長

• Cooling Plateと熱板の一体型モジュールによる基板間の熱履歴統一を実現
• 優れた装置内環境制御（気流制御、温湿度コントロール、ケミカルフィルタリングなど）
• マスク間・マスク面内のプロセス均一性向上
• SMIFにも対応した全自動マスク搬送

• ※CLEAN TRACK ACTは、東京エレクトロン株式会社の登録商標です。