コータ/デベロッパCLEAN TRACKシリーズは、ワールドクラスの高いパフォーマンスと信頼性を有し、最先端の露光装置にも対応した200mmおよび300mmウェーハ用レジスト塗布現像装置です。また、コータ/デベロッパCLEAN TRACK ACTシリーズのプラットフォームを採用した低誘電率の層間絶縁膜を塗布方式で成膜するSODコータも併せて提供しています。

半導体製造装置コータ／デベロッパは、半導体製造プロセスのうち写真と同じ技術を利用したフォトリソグラフィープロセスにおいて、感光剤（フォトレジスト）の塗布（コート＝coat）と現像（デベロップ＝develop）を行う装置です。コータ／デベロッパでウェーハ上にフォトレジストを塗布した後、ウェーハは露光装置に送られ微細な回路パターンが転写されます。次に、またコータ／デベロッパにおいて薬液を用いた現像が行なわれます。これにより光の当たった部分のフォトレジストは溶けて流れ、ウェーハ上に転写した回路パターンが凹凸に描かれます。このフォトリソグラフィープロセスは様々な工程毎に繰り返し行われ、複雑な集積回路が作られます。