東京エレクトロン株式会社（東京都港区、社長：佐藤　潔）は、最先端デバイス製造技術の更なる微細化要求に応えるため、液浸露光機（ニコン社製 ArF液浸スキャナー ： NSR-S610C）を山梨・穂坂事業所内クリーンルームに導入し、22nm世代に向けた各要素技術開発を加速します。

　東京エレクトロンは、多様化する技術ニーズに応えるため、総合的な研究・開発施設を国内外（国内：先端プロセス開発センター、米国：TTCA（TEL Technology Center, America, LLC））に開設し、次世代技術ならびにインテグレーション評価・開発環境をお客様へ提供してきました。
今回の最新鋭露光機の導入により、微細化に伴う課題・懸念点の早期把握を行い、弊社要素技術による解決・対策・新製品リリースの早期実施、また、近年次世代デバイスへ量産適用が検討されているダブルパターニングなどモジュール技術の確立を目指します。

　次世代デバイス実現に向けて検討されているダブルパターニング技術では、従来、露光装置/レジスト塗布現像装置で実現してきた微細化技術に大きな変革が必要です。当社が有する豊富なプロセス装置群（レジスト塗布現像装置、エッチング装置、成膜装置、洗浄装置、寸法測定装置）を融合/最適化することにより、22nmノードに向けた微細化、高CD制御性、LWR（Line Width Roughness) 低減などの技術課題の早期解決に大きく寄与します。また、インテグレーション工程を理解した要素技術の提案が求められています。

　東京エレクトロンは、微細化対応技術の評価・開発環境を整え、お客様より期待される総合装置メーカーへの要求を理解し、前後工程まで考慮にいれた要素技術の提案、信頼度の高い量産技術の提供を目指します。