東京エレクトロン株式会社（東京都港区、社長：佐藤潔）は、2009年春、300mmプロセス対応 レジスト塗布現像装置「CLEAN TRACK® LITHIUS®シリーズ」の最新機種である300mmプロセス対応 高生産性モデル『CLEAN TRACK® LITHIUS Pro™ V』を市場にリリースいたします。

　東京エレクトロンでは、これまで世界中のお客様方からご愛顧いただいている当社のレジスト塗布現像装置CLEAN TRACK ACT®シリーズおよびCLEAN TRACK® LITHIUS®シリーズで培った高い技術力を礎に、飛躍的な高生産性 / 高信頼性を実現すべく300mmプロセス対応レジスト塗布現像装置後継機種の開発を進めてきました。

　CLEAN TRACK LITHIUS Pro Vは、昨年リリースし、既に多くのお客様から絶大な支持を受けておりますLITHIUS Proのデザインコンセプトを発展させ、更なる高スループット化と共にOEE（Overall Equipment Efficiency）を極限にまで高め、一日あたりの処理能力(Wafer Per Day)の最大化を実現します。　更に、ダブルパターニング技術等へのプロセス拡張性も備え、最先端半導体工場における、効率的な半導体デバイス生産環境構築を強力にサポートいたします。

　東京エレクトロンは、これからも技術イノベーションを追求するお客様とともに、市場ニーズに応えるべく最良のソリューションを提供していきます。